検索対象によって、検索可能な種別が異なります。
説明 | コード(省略) | コード | 検索種別 |
名称/要約/請求の範囲/明細書/審査官フリーワード | KW | keywords | 部分一致/近傍 |
名称/要約/請求の範囲 | KWC | keyword_claims | 部分一致/近傍 |
名称/要約/請求の範囲/明細書 | KWD | keyword_desc | 部分一致/近傍 |
セマンティック検索(名称/要約/請求の範囲/明細書/審査官フリーワード) | SE | semantic | semantic |
セマンティック検索(名称/要約/請求の範囲) | SEC | semantic_claims | semantic |
セマンティック検索(請求の範囲) | SEAC | semantic_all_claims | semantic |
セマンティック検索(請求の範囲トップクレーム) | SETC | semantic_top_claim | semantic |
セマンティック検索(名称) | SETI | semantic_title | semantic |
セマンティック検索(要約) | SEAB | semantic_abstract | semantic |
セマンティック検索(JP技術分野/背景技術/課題/効果) | SETBPE | semantic_tbpe | semantic |
セマンティック検索(JP技術分野/背景技術/課題/効果/解決手段) | SETBPES | semantic_tbpes | semantic |
セマンティック検索(JP技術分野/背景技術/課題/効果/利用可能性) | SETBPEA | semantic_tbpea | semantic |
セマンティック検索(JP課題) | SEPB | semantic_problem | semantic |
セマンティック検索(JP効果) | SEEF | semantic_effect | semantic |
セマンティック検索(JP技術分野) | SETF | semantic_technical_field | semantic |
セマンティック検索(JP背景技術) | SEBG | semantic_background | semantic |
セマンティック検索(JP課題を解決するための手段) | SESL | semantic_solution | semantic |
セマンティック検索(JP産業上の利用可能性) | SEAC | semantic_applicability | semantic |
セマンティック検索(引用関係) | SET | semantic_citation | semantic |
セマンティック検索[複数番号x母集団](実験機能) | SEM | semantic_multi | semantic |
セマンティック検索(JP/PCTJP/US/EP/CN/KR/WO日本語横断) | SECJ | semantic_cross_ja | semantic |
セマンティックスコア(名称/要約/請求の範囲/明細書/審査官フリーワード) | SES | semantic_score | semantic |
セマンティックスコア(名称/要約/請求の範囲) | SESC | semantic_score_claims | semantic |
セマンティックスコア(請求の範囲) | SESAC | semantic_score_all_claims | semantic |
セマンティックスコア(請求の範囲トップクレーム) | SESTC | semantic_score_top_claim | semantic |
セマンティックスコア(名称) | SESTI | semantic_score_title | semantic |
セマンティックスコア(要約) | SESAB | semantic_score_abstract | semantic |
セマンティックスコア(JP技術分野/背景技術/課題/効果) | SESTBPE | semantic_score_tbpe | semantic |
セマンティックスコア(JP技術分野/背景技術/課題/効果/解決手段) | SESTBPES | semantic_score_tbpes | semantic |
セマンティックスコア(JP技術分野/背景技術/課題/効果/利用可能性) | SESTBPEA | semantic_score_tbpea | semantic |
セマンティックスコア(JP課題) | SESPB | semantic_score_problem | semantic |
セマンティックスコア(JP効果) | SESEF | semantic_score_effect | semantic |
セマンティックスコア(JP技術分野) | SESTF | semantic_score_technical_field | semantic |
セマンティックスコア(JP背景技術) | SESBG | semantic_score_background | semantic |
セマンティックスコア(JP課題を解決するための手段) | SESSL | semantic_score_solution | semantic |
セマンティックスコア(JP産業上の利用可能性) | SESAC | semantic_score_applicability | semantic |
セマンティックスコア(引用関係) | SEST | semantic_score_citation | semantic |
セマンティックスコア(JP/PCTJP/US/EP/CN/KR/WO日本語横断) | SESCJ | semantic_score_cross_ja | semantic |
名称 | TI | title | 部分一致/近傍 |
要約 | AB | abstract | 部分一致/近傍 |
請求の範囲(出願/付与) | CL | claims | 部分一致/近傍 |
請求の範囲トップクレーム(付与優先) | TCL | top_claim | 部分一致/近傍 |
請求の範囲独立項(付与優先)[JP] | ICL | independent_claims | 部分一致/近傍 |
請求の範囲(出願) | ACL | app_claims | 部分一致/近傍 |
請求の範囲(付与) | GCL | grant_claims | 部分一致/近傍 |
請求の範囲(付与優先) | GOACL | grant_or_app_claims | 部分一致/近傍 |
明細書 | DE | description | 部分一致/近傍 |
課題(JP) | PB | problem | 部分一致/近傍 |
効果(JP) | EF | effect | 部分一致/近傍 |
技術分野(JP) | TF | technical_field | 部分一致/近傍 |
背景技術(JP) | BG | background | 部分一致/近傍 |
課題を解決するための手段(JP) | SL | solution | 部分一致/近傍 |
産業上の利用可能性(JP) | AC | applicability | 部分一致/近傍 |
日本語横断検索[JP|PCTJP|CN|KR全文][US|EP|WO名称|要約|第1クレーム|抄録] | CRJKWD | cross_ja | 部分一致/近傍 |
名称[US|EP|WO](npat機械翻訳) | NPTI | title_npat_ja | 部分一致/近傍 |
要約[US|EP|WO](npat機械翻訳) | NPAB | abstract_npat_ja | 部分一致/近傍 |
請求の範囲トップクレーム(付与優先)[US|EP|WO](npat機械翻訳) | NPTCL | top_claim_npat_ja | 部分一致/近傍 |
請求の範囲トップクレーム(出願)[US|EP|WO](npat機械翻訳) | NPTACL | top_app_claim_npat_ja | 部分一致/近傍 |
請求の範囲トップクレーム(付与)[US|EP|WO](npat機械翻訳) | NPTGCL | top_grant_claim_npat_ja | 部分一致/近傍 |
和文抄録名称[US|EP](JPO) | JATI | jpo_summary_title | 部分一致/近傍 |
和文抄録[US|EP](JPO) | JASM | jpo_summary | 部分一致/近傍 |
名称[CN|KR](JPO機械翻訳) | JAMTTI | title_jpo_ja | 部分一致/近傍 |
要約[CN|KR](JPO機械翻訳) | JAMTAB | abstract_jpo_ja | 部分一致/近傍 |
請求の範囲トップクレーム[CN|KR](JPO機械翻訳) | JAMTTCL | top_claim_jpo_ja | 部分一致/近傍 |
請求の範囲(出願)[CN|KR](JPO機械翻訳) | JAMTACL | app_claims_jpo_ja | 部分一致/近傍 |
請求の範囲(付与)[CN|KR](JPO機械翻訳) | JAMTGCL | grant_claims_jpo_ja | 部分一致/近傍 |
明細書[CN|KR](JPO機械翻訳) | JAMTDE | description_jpo_ja | 部分一致/近傍 |
出願人/譲受人/権利者(出願/付与/最新) | APP | applicants | 部分一致/近傍 |
出願人/譲受人/権利者住所(出願/付与/最新) | APPAD | applicants_addr | 部分一致/近傍 |
代理人/特許事務所(出願/付与/最新) | ATT | attorneys | 部分一致/近傍 |
発明者(出願/付与/最新) | INV | inventors | 部分一致/近傍 |
発明者住所(出願/付与/最新) | INVAD | inventors_addr | 部分一致/近傍 |
出願国 | CNT | country | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開種別(KindCode) | KND | kinds | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願番号(EPODOC) | AN | app_id | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願番号 | ADN | app_doc_id | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願番号(オリジナル) | ANO | app_id_o | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願日 | AD | app_date | 完全一致/範囲/不等号 |
出願年 | AY | app_year | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願月 | AM | app_month | 完全一致 |
シリーズコード(US) | SC | series_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開番号 | PN | pub_id | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開番号(オリジナル) | PNO | pub_id_o | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開日 | PD | pub_date | 完全一致/範囲/不等号 |
公開年 | PY | pub_year | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開月 | PM | pub_month | 完全一致 |
登録番号 | EN | exam_id | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録番号(オリジナル) | ENO | exam_id_o | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録発行日 | ED | exam_date | 完全一致/範囲/不等号 |
登録発行年 | EY | exam_year | 完全一致/前方一致/あいまい |
登報発行月 | EM | exam_month | 完全一致 |
登録日 | RD | reg_date | 完全一致/範囲/不等号 |
登録年 | RY | reg_year | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録月 | RM | reg_month | 完全一致 |
PCT公開番号 | WPN | wo_pub_id | 完全一致/前方一致/あいまい |
PCT公開日 | WPD | wo_pub_date | 完全一致/範囲/不等号 |
PCT出願番号 | WAN | wo_app_id | 完全一致/前方一致/あいまい |
PCT翻訳文提出日 | WTD | wo_trans_date | 完全一致/範囲/不等号 |
IPCセクション | IPCSEC | ipc_sections | 完全一致/前方一致/あいまい |
IPCクラス | IPCCLS | ipc_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
IPCサブクラス | IPCSUBCLS | ipc_subclasses | 完全一致/前方一致/あいまい |
IPCメイングループ | IPCMG | ipc_maingroups | 完全一致/前方一致/あいまい |
IPC | IPC | ipcs | 完全一致/前方一致/あいまい |
筆頭IPC | IPCMAIN | ipc_main | 完全一致/前方一致/あいまい |
最新IPC8セクション | IPC8SEC | ipc8_sections | 完全一致/前方一致/あいまい |
最新IPC8クラス | IPC8CLS | ipc8_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
最新IPC8サブクラス | IPC8SUBCLS | ipc8_subclasses | 完全一致/前方一致/あいまい |
最新IPC8メイングループ | IPC8MG | ipc8_maingroups | 完全一致/前方一致/あいまい |
最新IPC8 | IPC8 | ipc8s | 完全一致/前方一致/あいまい |
筆頭最新IPC8 | IPC8MAIN | ipc8_main | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開IPCセクション | PIPCSEC | pub_ipc_sections | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開IPCクラス | PIPCCLS | pub_ipc_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開IPCサブクラス | PIPCSUBCLS | pub_ipc_subclasses | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開IPCメイングループ | PIPCMG | pub_ipc_maingroups | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開IPC | PIPC | pub_ipcs | 完全一致/前方一致/あいまい |
筆頭公開IPC | PIPCMAIN | pub_ipc_main | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録IPCセクション | EIPCSEC | exam_ipc_sections | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録IPCクラス | EIPCCLS | exam_ipc_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録IPCサブクラス | EIPCSUBCLS | exam_ipc_subclasses | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録IPCメイングループ | EIPCMG | exam_ipc_maingroups | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録IPC | EIPC | exam_ipcs | 完全一致/前方一致/あいまい |
筆頭登録IPC | EIPCMAIN | exam_ipc_main | 完全一致/前方一致/あいまい |
JST/RISTEX社会問題キーワード | JSTPB | social_problems | 完全一致/前方一致/あいまい |
JST/RISTEX社会問題キーワード中項目 | JSTPBSC | social_problems_s_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
JST/RISTEX社会問題キーワード大項目 | JSTPBLC | social_problems_l_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
JST/RISTEX社会問題キーワード(要約) | JSTPBA | social_problems_in_ab | 完全一致/前方一致/あいまい |
JST/RISTEX社会問題キーワード(課題) | JSTPBP | social_problems_in_pb | 完全一致/前方一致/あいまい |
NISTEP技術分類 | NSTEC | nistep_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
WIPO技術分類 | WOTEC | wipo_techs | 完全一致/前方一致/あいまい |
JPO審査部技術分類 | JPOSEC | jpo_sections | 完全一致/前方一致/あいまい |
JPO審査部技術単位 | JPOCLS | jpo_l_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
JPO審査部技術分野 | JPOTEC | jpo_techs | 完全一致/前方一致/あいまい |
CPC | CPC | cpcs | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(タイトル/要約/請求の範囲/明細書/審査官キーワード) | FW | word_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(名称/要約/請求の範囲) | CW | claims_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(請求の範囲) | ACW | all_claims_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(名称) | TIW | title_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(要約) | ABW | abstract_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP技術分野/背景技術/課題/効果) | TBPEW | tbpe_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP技術分野/背景技術/課題/効果/解決手段) | TBPESW | tbpes_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP技術分野/背景技術/課題/効果/利用可能性) | TBPEAW | tbpea_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(請求の範囲トップクレーム) | TCW | top_claim_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP課題) | PBW | problem_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP効果) | EFW | effect_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP技術分野) | TFW | technical_field_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP背景技術) | BGW | background_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP課題を解決するための手段) | SLW | solution_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP産業上の利用可能性) | APW | applicability_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
特徴キーワード(JP/PCTJP/US/EP/CN/KR/WO日本語横断) | CJW | cross_ja_weights | 完全一致/前方一致/あいまい |
優先権主張番号 | PRN | priority_claims | 完全一致/前方一致/あいまい |
優先国 | PRCNT | priority_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
優先日 | PRD | priority_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
原出願番号 | PAN | parents | 完全一致/前方一致/あいまい |
原出願種別 | PAT | parent_types | 完全一致/前方一致/あいまい |
原出願日 | PAD | parent_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
原出願数 | PAC | parents_count | 完全一致/範囲/不等号 |
遡及日 | RETD | retroacted_date | 完全一致/範囲/不等号 |
請求項数(付与|出願) | CLC | claim_count | 完全一致/範囲/不等号 |
請求項数(付与) | GRCLC | grant_claim_count | 完全一致/範囲/不等号 |
請求項(出願)文字数 | APCLCH | app_claims_size | 完全一致/範囲/不等号 |
請求項(付与)文字数 | GRCLCH | grant_claims_size | 完全一致/範囲/不等号 |
請求項トップクレーム文字数 | TCLCH | top_claim_size | 完全一致/範囲/不等号 |
明細書文字数 | DECLCH | description_size | 完全一致/範囲/不等号 |
被引用件数(JP・US) | CITINGC | citing_count | 完全一致/範囲/不等号 |
被引用件数(自己引用除く)(JP・US) | CITINGOC | citing_other_count | 完全一致/範囲/不等号 |
引用件数 | CITEDTC | cited_total_count | 完全一致/範囲/不等号 |
引用件数(国内) | CITEDC | cited_count | 完全一致/範囲/不等号 |
引用件数(自己引用除く)(国内) | CITEDOC | cited_other_count | 完全一致/範囲/不等号 |
引用件数(国外) | CITEDFC | cited_foreign_count | 完全一致/範囲/不等号 |
被引用特許(JP・US) | CITINGAN | citing_patents_app | 完全一致/前方一致/あいまい |
被引用特許(自己引用除く)(JP・US) | CITINGOAN | citing_other_patents_app | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許 | CITEDPN | cited_patents | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許(JP・US出願番号) | CITEDAN | cited_patents_app | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許(自己引用除く)(JP・US出願番号) | CITEDOAN | cited_other_patents_app | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許審査官以外 | CITEDOTPN | cited_patents_by_others | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許種別 | CITEDTP | cited_patent_types | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許起案日 | CITEDD | cited_patent_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
引用特許(国外) | CITEDFPN | cited_foreign_patents | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許国(国外) | CITEDPCNT | cited_foreign_patent_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許審査官以外(国外) | CITEDFOTPN | cited_foreign_patents_by_others | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用文献(非特許) | CITEDDOC | cited_documents | 部分一致/近傍 |
引用文献審査官以外(非特許) | CITEDDOCOT | cited_documents_by_others | 部分一致/近傍 |
引用カテゴリー(JP) | CITEFCA | citation_forward_categories | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用日(JP) | CITEFD | citation_forward_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
被引用カテゴリー(JP) | CITEBCA | citation_back_categories | 完全一致/前方一致/あいまい |
被引用日(JP) | CITEBD | citation_back_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
新規性喪失の例外 | LON | lack_of_novelties | 部分一致/近傍 |
保存検索条件ID | SS | search_settings | 保存検索条件ID |
行番号(コマンド検索の場合のみ) | L | line | 行番号 |
名前 | KEY | _key | 完全一致/前方一致/あいまい |
FIサブクラス | FISUBCLS | fi_subclasses | 完全一致/前方一致/あいまい |
FIメイングループ | FIMG | fi_maingroups | 完全一致/前方一致/あいまい |
FI | FI | fis | 完全一致/前方一致/あいまい |
FIファセット | FIF | fi_facets | 完全一致/前方一致/あいまい |
テーマコード | TH | themes | 完全一致/前方一致/あいまい |
Fターム | FT | fterms | 完全一致/前方一致/あいまい |
審査官フリーワード(部分一致) | FR | freewords | 部分一致/近傍 |
審査官フリーワード | EFR | srm_freewords | 完全一致/前方一致/あいまい |
意匠分類 | DC | design_classifications | 完全一致/前方一致/あいまい |
画像意匠分類 | IDC | image_design_classifications | 完全一致/前方一致/あいまい |
Dターム | DT | d_terms | 完全一致/前方一致/あいまい |
商標(表示用) | TNM | name_of_trademark_info | 部分一致/近傍 |
標準文字 | TSC | standard_character | 部分一致/近傍 |
称呼 | TAPL | appellation | 部分一致/近傍 |
商品及び役務の区分 | TDC | designated_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
指定商品又は指定役務 | TDG | designated_goods_and_services | 完全一致/前方一致/あいまい |
国内優先権主張番号(JP) | PRNJP | priority_claims_jp | 完全一致/前方一致/あいまい |
原出願番号(JP) | PANJP | parents_jp | 完全一致/前方一致/あいまい |
関連意匠 | REDE | related_designs | 完全一致/前方一致/あいまい |
本意匠 | PRDE | principal_designs | 完全一致/前方一致/あいまい |
本意匠に係る他の関連意匠の意匠登録番号 | CODE | conserned_designs | 完全一致/前方一致/あいまい |
部分意匠 | PADE | part_design | 完全一致/範囲/不等号 |
請求項数(出願)(JP) | APCLC | app_claim_count | 完全一致/範囲/不等号 |
リーガルステータス(JP) | JPLST | jp_legal_status | 完全一致/前方一致/あいまい |
リーガルステータス(INPADOC) | INPLST | inpadoc_legal_status | 完全一致/前方一致/あいまい |
審査請求数(JP) | AMREQ | apm_req_exam | 完全一致/範囲/不等号 |
審査請求日(JP) | AMREQD | apm_req_exam_date | 完全一致/範囲/不等号 |
早期審査(JP) | AMACC | apm_accelerated_exam | 完全一致/前方一致/あいまい |
早期審査提出日(JP) | AMACCD | apm_accelerated_exam_date | 完全一致/範囲/不等号 |
審査記録最終処分コード(JP) | AMFE | apm_detail_app_final_exam | 完全一致/前方一致/あいまい |
審査記録最終処分日(JP) | AMED | apm_detail_app_exam_date | 完全一致/範囲/不等号 |
審査記録査定種別コード(JP) | AMFD | apm_detail_app_final_decision | 完全一致/前方一致/あいまい |
審査記録査定日(JP) | AMDD | apm_detail_app_decision_date | 完全一致/範囲/不等号 |
審査記録中間コード(JP) | AMC | apm_examine_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
情報提供受付日(JP) | AMOD | apm_offer_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
情報提供最終受付日(JP) | AMOLD | apm_offer_last_date | 完全一致/範囲/不等号 |
拒絶理由条文コード(JP) | AMRC | apm_rejection_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
拒絶理由条文コード(JP2021改訂) | AMRC | jp_rejection_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
拒絶理由通知書発送日(JP) | AMRD | apm_rejection_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
拒絶理由通知書最終発送日(JP) | AMRLD | apm_rejection_last_date | 完全一致/範囲/不等号 |
権利抹消識別(JP) | RMRC | rgm_detail_reg_cancel | 完全一致/前方一致/あいまい |
権利抹消識別分類(JP) | RMRCC | rgm_detail_reg_cancel_class | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録記録査定日(JP) | RMFD | rgm_dec_date_final_date | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録記録審決日(JP) | RMDD | rgm_dec_date_trial_date | 完全一致/範囲/不等号 |
存続期間満了日(JP) | RMFD | rgm_detail_reg_final_date | 完全一致/範囲/不等号 |
権利消滅日(JP) | RMTD | rgm_detail_reg_term_end_date | 完全一致/範囲/不等号 |
次期年金納付期限日(JP) | RMND | rgm_next_date | 完全一致/範囲/不等号 |
最終納付年分(JP) | RMTY | rgm_term_year | 完全一致/範囲/不等号 |
登録後最大存続年数(JP) | RMTL | rgm_max_life_period | 完全一致/範囲/不等号 |
概算最大年金納付費用(JP) | RMMC | rgm_max_maintain_cost_estimate | 完全一致/範囲/不等号 |
概算年金納付済費用(JP) | RMPC | rgm_paid_maintain_cost_estimate | 完全一致/範囲/不等号 |
登録記録中間コード(JP) | RMC | rgm_regist_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
登録記録特許料納付コード(JP) | RMPYC | rgm_payment_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
特許料納付日(JP) | RMPYD | rgm_payment_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
最終特許料納付日(JP) | RMPYLD | rgm_payment_last_date | 完全一致/範囲/不等号 |
権利者/出願人横断原語 | CRAPP | cross_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人横断英語 | CREAPP | cross_en_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(JP名寄せ) | STAPP | std_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人都道府県(JP名寄せ) | STAPPPRF | std_applicants_pref_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人地域(JP名寄せ) | STAPPPRG | std_applicants_region | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人上場市場(JP名寄せ) | STAPPSTM | std_applicants_stock_market | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人証券コード(JP名寄せ) | STAPPSEC | std_applicants_sec_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人証券コード協会業種大分類(JP名寄せ) | STAPPLCLS | std_applicants_l_class | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人証券コード協会業種小分類(JP名寄せ) | STAPPSCLS | std_applicants_s_class | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人企業規模(JP名寄せ) | STAPPCSL | std_applicants_comp_size_law | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人資本金階級(JP名寄せ) | STAPPCSC | std_applicants_comp_size_cap | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人従業員数階級(JP名寄せ) | STAPPCSE | std_applicants_comp_size_emp | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人日本標準産業分類コード(JP名寄せ) | STAPPJSC | std_applicants_jsic_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人日本標準産業分類(大分類)(JP名寄せ) | STAPPJCL | std_applicants_jsic_l | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人日本標準産業分類(中分類)(JP名寄せ) | STAPPJCM | std_applicants_jsic_m | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人日本標準産業分類(小分類)(JP名寄せ) | STAPPJCS | std_applicants_jsic_s | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人EDINETコード(JP名寄せ) | STAPPEDC | std_applicants_edinet_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人法人番号(JP名寄せ) | STAPPCPN | std_applicants_corp_num | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人学校種別(JP名寄せ) | STAPPACT | std_applicants_academic_type | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号 | STAPC | std_applicant_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号都道府県 | STAPCPRF | std_applicant_codes_pref_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号地域 | STAPCPRG | std_applicant_codes_region | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号上場市場 | STAPCSTM | std_applicant_codes_stock_market | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号証券コード | STAPCSEC | std_applicant_codes_sec_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号証券コード協会業種大分類 | STAPCLCLS | std_applicant_codes_l_class | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号証券コード協会業種小分類 | STAPCSCLS | std_applicant_codes_s_class | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号企業規模 | STAPCCSL | std_applicant_codes_comp_size_law | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号資本金階級 | STAPCCSC | std_applicant_codes_comp_size_cap | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号従業員数階級 | STAPCCSE | std_applicant_codes_comp_size_emp | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号日本標準産業分類コード | STAPCJSC | std_applicant_codes_jsic_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号日本標準産業分類(大分類) | STAPCJCL | std_applicant_codes_jsic_l | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号日本標準産業分類(中分類) | STAPCJCM | std_applicant_codes_jsic_m | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号日本標準産業分類(小分類) | STAPCJCS | std_applicant_codes_jsic_s | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号EDINETコード | STAPCEDC | std_applicant_codes_edinet_code | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号法人番号 | STAPCCPN | std_applicant_codes_corp_num | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号学校種別 | STAPCACT | std_applicant_codes_academic_type | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(JP最新) | AMAPP | apm_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号(JP最新) | AMAPPCD | apm_applicant_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人国(JP最新) | AMAPPCNT | apm_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人都道府県(JP最新) | AMAPPPRF | apm_applicant_prefectures | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(JP最新) | AMAPPC | apm_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
代理人(JP最新) | AMATT | apm_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
特許事務所(JP最新) | AMATTO | apm_attorney_offices | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者横断 | CRINV | cross_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(JP最新) | AMINV | apm_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者数(JP最新) | AMINVC | apm_inventors_count | 完全一致/範囲/不等号 |
発明者国(JP最新) | AMINVCNT | apm_inventor_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者都道府県(JP最新) | AMINVPRF | apm_inventor_prefectures | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(JP出願) | APAPP | app_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
付与前異議決定の種別(旧制度)(JP) | AMOPKND | apm_opposition_kinds | 完全一致/前方一致/あいまい |
付与前異議申立人(旧制度)(JP) | AMOP | apm_opponents | 完全一致/前方一致/あいまい |
付与前異議申立代理人(旧制度)(JP) | AMOPATT | apm_opposition_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号(JP出願) | APAPPCD | app_applicant_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人国(JP出願) | APAPPCNT | app_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人都道府県(JP出願) | APAPPPRF | app_applicant_prefectures | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(JP出願) | APAPPC | app_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
代理人(JP出願) | APATT | app_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
特許事務所(JP出願) | APATTO | app_attorney_offices | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(JP出願) | APINV | app_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者国(JP出願) | APINVAD | app_inventor_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者都道府県(JP出願) | APINVPRF | app_inventor_prefectures | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(JP付与) | GRAPP | grant_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人識別番号(JP付与) | GRAPPCD | grant_applicant_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人国(JP付与) | GRAPPCNT | grant_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人都道府県(JP付与) | GRAPPPRF | grant_applicant_prefectures | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(JP付与) | GRAPPC | grant_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
代理人(JP付与) | GRATT | grant_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
特許事務所(JP付与) | GRATTO | grant_attorney_offices | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(JP付与) | GRINV | grant_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者国(JP付与) | GRINVC | grant_inventor_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者都道府県(JP付与) | GRINVPRF | grant_inventor_prefectures | 完全一致/前方一致/あいまい |
審査官(JP付与) | GREX | grant_examiners | 完全一致/前方一致/あいまい |
審査官種別(JP付与) | GREXK | grant_examiner_kinds | 完全一致/前方一致/あいまい |
権利者(JP最新) | RMH | rgm_holders | 完全一致/前方一致/あいまい |
権利者識別番号(JP最新) | RMHCD | rgm_holder_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
権利者国(JP最新) | RMHCNT | rgm_holder_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
権利者都道府県(JP最新) | RMHPRF | rgm_holder_prefectures | 完全一致/前方一致/あいまい |
権利者数(JP最新) | RMHC | rgm_holders_count | 完全一致/範囲/不等号 |
審判記録中間コード(JP) | AEC | aem_appeal_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判記録拒絶理由条文コード(JP) | AERC | aem_rejection_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判記録拒絶理由通知書発送日(JP) | AERD | aem_rejection_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
審判記録拒絶理由通知書最終発送日(JP) | AERLD | aem_rejection_last_date | 完全一致/範囲/不等号 |
審判記録無効理由条文コード(JP) | AEIC | aem_invalidation_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判記録無効理由通知書発送日(JP) | AEID | aem_invalidation_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
審判記録無効理由通知書最終発送日(JP) | AEILD | aem_invalidation_last_date | 完全一致/範囲/不等号 |
審判番号(JP) | AEN | aem_appeal_numbers | 完全一致/前方一致/あいまい |
審級等の種別(JP) | AEI | aem_kind_of_instances | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判種別(JP) | AEA | aem_kind_of_appeals | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判最終処分種別(JP) | AEDI | aem_kind_of_disposition_in_appeals | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判最終処分日(JP) | AEDID | aem_kind_of_disposition_in_appeals_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
審判結論コード(JP) | AECS | aem_appeal_conclusions | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判請求人(JP) | AEL | aem_licensees | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判請求代理人(JP) | AELATT | aem_licensee_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判被請求人(JP) | AEDE | aem_defendants | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判被請求代理人(JP) | AEDEATT | aem_defendant_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判異議申立人(JP) | AEOP | aem_opponents | 完全一致/前方一致/あいまい |
審判異議申立代理人(JP) | AEOPATT | aem_opposition_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
名称(EN)(PatentAbstractofJapan) | JENTI | en_title | 部分一致/近傍 |
要約(EN)(PatentAbstractofJapan) | JENAB | en_abstract | 部分一致/近傍 |
出願人(EN)(PatentAbstractofJapan) | JENAPP | en_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(EN)(PatentAbstractofJapan) | JENINV | en_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
国等の委託研究の成果に係る記載事項 | INDL | industrial_laws | 部分一致/近傍 |
USPCクラス | USPCCLS | uspc_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
USPC | USPC | uspcs | 完全一致/前方一致/あいまい |
USPCクラス(意匠) | USDCCLS | us_design_code_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
USPC(意匠) | USDC | us_design_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
ロカルノ分類 | LOC | locarnos | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人(US付与) | USGRASS | us_grant_assignees | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人数(US付与) | USGRASSC | us_grant_assignees_count | 完全一致/範囲/不等号 |
譲受人国(US付与) | USGRASSCNT | us_grant_assignee_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(US付与) | USGRAPP | us_grant_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(US付与) | USGRAPPC | us_grant_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(US付与) | USGRAPPCNT | us_grant_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(US付与) | USGRATT | us_grant_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(US付与) | USGRINV | us_grant_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人(US出願) | USAPASS | us_app_assignees | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人数(US出願) | USAPASSC | us_app_assignees_count | 完全一致/範囲/不等号 |
譲受人国(US出願) | USAPASSCNT | us_app_assignee_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(US出願) | USAPAPP | us_app_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(US出願) | USAPAPPC | us_app_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(US出願) | USAPAPPCNT | us_app_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(US出願) | USAPATT | us_app_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(US出願) | USAPINV | us_app_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人(EP) | EPPRP | ep_proprietors | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人数(EP) | EPPRPC | ep_proprietors_count | 完全一致/範囲/不等号 |
譲受人国(EP) | EPPRPCNT | ep_proprietor_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(EP付与) | EPGRAPP | ep_grant_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(EP付与) | EPGRAPPC | ep_grant_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(EP付与) | EPGRAPPCNT | ep_grant_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(EP付与) | EPGRATT | ep_grant_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(EP付与) | EPGRINV | ep_grant_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(EP出願) | EPAPAPP | ep_app_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(EP出願) | EPAPAPPC | ep_app_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(EP出願) | EPAPAPPCNT | ep_app_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(EP出願) | EPAPATT | ep_app_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(EP出願) | EPAPINV | ep_app_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(WO) | WOAPP | wo_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人国(WO) | WOAPPCNT | wo_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人英語(WO) | WOAPPEN | wo_en_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(WO) | WOATT | wo_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(WO) | WOINV | wo_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(CN出願) | CNAPAPP | cn_app_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(CN出願) | CNAPAPPC | cn_app_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(CN出願) | CNAPAPPCNT | cn_app_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(CN出願) | CNAPATT | cn_app_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(CN出願) | CNAPINV | cn_app_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人(CN付与) | CNGRASS | cn_grant_assignees | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人数(CN付与) | CNGRASSC | cn_grant_assignees_count | 完全一致/範囲/不等号 |
譲受人国(CN付与) | CNGRASSCNT | cn_grant_assignee_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(CN付与) | CNGRAPP | cn_grant_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(CN付与) | CNGRAPPC | cn_grant_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(CN付与) | CNGRAPPCNT | cn_grant_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(CN付与) | CNGRATT | cn_grant_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(CN付与) | CNGRINV | cn_grant_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(KR出願) | KRAPAPP | kr_app_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(KR出願) | KRAPAPPC | kr_app_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(KR出願) | KRAPAPPCNT | kr_app_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(KR出願) | KRAPATT | kr_app_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(KR出願) | KAPINV | kr_app_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人(KR付与) | KRGRASS | kr_grant_assignees | 完全一致/前方一致/あいまい |
譲受人数(KR付与) | KRGRASSC | kr_grant_assignees_count | 完全一致/範囲/不等号 |
譲受人国(KR付与) | KRGRASSCNT | kr_grant_assignee_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(KR付与) | KRGRAPP | kr_grant_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人数(KR付与) | KRGRAPPC | kr_grant_applicants_count | 完全一致/範囲/不等号 |
出願人国(KR付与) | KRGRAPPCNT | kr_grant_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
代理人/事務所(KR付与) | KRGRATT | kr_grant_attorneys | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(KR付与) | KRGRINV | kr_grant_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(DOCDB) | DCAPP | docdb_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人(DOCDBオリジナル) | DCOAPP | docdbo_applicants | 完全一致/前方一致/あいまい |
出願人国(DOCDB) | DCAPPCNT | docdb_applicant_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者(DOCDB) | DCINV | docdb_inventors | 完全一致/前方一致/あいまい |
発明者国(DOCDB) | DCINVCNT | docdb_inventor_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
優先権主張番号(DOCDB) | DCPRN | docdb_priority_claims | 完全一致/前方一致/あいまい |
優先国(DOCDB) | DCPRCNT | docdb_priority_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
優先日(DOCDB) | DCPRD | docdb_priority_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
パテントファミリー出願番号 | DCFM | families | 完全一致/前方一致/あいまい |
パテントファミリー出願国 | DCFMCNT | family_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
パテントファミリー出願国数 | DCFMC | family_count | 完全一致/範囲/不等号 |
公開番号(DOCDB) | DCPNS | docdb_pub_ids | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開番号(DOCDBオリジナル) | DCPNOS | docdb_pub_idos | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開番号(DOCDBDOCDB形式) | DCPNDS | docdb_pub_idds | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開種別(DOCDB) | DCKND | docdb_kinds | 完全一致/前方一致/あいまい |
公開日(DOCDB) | DCPDS | docdb_pub_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
引用特許(DOCDB) | DCCITEDAN | docdb_cited_patents | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許種別(DOCDB) | DCCITEDPH | docdb_cited_patent_phases | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許起案日(DOCDB) | DCCITEDD | docdb_cited_patent_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
引用特許審査官以外(DOCDB) | DCCITEDOTAN | docdb_cited_patents_by_others | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許種別審査官以外(DOCDB) | DCCITEDOTPH | docdb_cited_patent_phases_by_others | 完全一致/前方一致/あいまい |
引用特許起案日審査官以外(DOCDB) | DCCITEDOTD | docdb_cited_patent_dates_by_others | 完全一致/範囲/不等号 |
被引用特許(DOCDB) | DCCCITINGAN | docdb_citing_patents | 完全一致/前方一致/あいまい |
被引用件数(DOCDB) | DCCITINGC | docdb_citing_count | 完全一致/範囲/不等号 |
引用件数(DOCDB) | DCCITEDC | docdb_cited_count | 完全一致/範囲/不等号 |
リーガルイベントコード(INPADOC) | INPDCD | inpadoc_event_codes | 完全一致/前方一致/あいまい |
リーガルイベント分類(INPADOC) | INPDCL | inpadoc_event_classes | 完全一致/前方一致/あいまい |
リーガルイベント日(INPADOC) | INPDD | inpadoc_event_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
権利者履歴(INPADOC) | INPDOW | inpadoc_owners | 完全一致/前方一致/あいまい |
権利者変更日(INPADOC) | INPDOWD | inpadoc_owner_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
年金支払年数(INPADOC) | INPDPAY | inpadoc_payment_year | 完全一致/範囲/不等号 |
国内移行国(INPADOC) | INPDCNT | inpadoc_national_entry_countries | 完全一致/前方一致/あいまい |
国内移行番号(INPADOC) | INPDN | inpadoc_national_entry_doc_numbers | 完全一致/前方一致/あいまい |
国内移行日(INPADOC) | INPDD | inpadoc_national_entry_dates | 完全一致/範囲/不等号 |
グループ開始(括弧開) | ( | ( | ( |
グループ終了(括弧閉) | ) | ) | ) |
検索結果集合上位 | R | result_set_slice | 検索結果集合上位 |
検索式タグ | T | expr_tags | expr_tags |
引用関係結合 | CNM | citation_merge | citation |
ファミリー結合 | FMM | family_merge | family |
ファミリー代表(日本語優先) | JREP | ja_rep | family |
ファミリー代表(英語優先) | EREP | en_rep | family |
原出願代表 | PREP | parents_rep | family |